反応性イオンエッチング (はんのうせいイオンエッチング、Reactive Ion Etching; RIE) はドライエッチングに分類される微細加工技術の一つである。 原理としては、反応室内でエッチングガスにマイクロ波等の電磁波を照射することによりプラズマ化し、同時に試料を置く陰極に高周波電圧を印加
水性ガスシフト反応
水性ガスシフト反応(すいせいガスシフトはんのう、water gas shift reaction)は有機工業化学の反応の一つで、一酸化炭素と水蒸気から二酸化炭素と水素を生成する反応。単にシフト反応とも言う。 反応式は、 CO + H 2 O ↽ − − ⇀ CO 2 + H 2 + 41 ⋅ 2 kJ
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